두 개의 로깅을 사용 하 여 회전자 유량 계에서 결과 해석 하는 기술 이자, 위로 및 아래로 영역을 통해 실행 됩니다. 두 패스는 동일한 케이블 속도에서 실행 하는 경우 그들은 구멍, 아래 오버레이 것 이다 아무 흐름입니다. 그들은 같은 속도로 실행 되지 않았습니다, 곡선 오버레이 이동 합니다. 다른 곳에서 , 곡선 사이의 분리 각 영역의 상대적 기여도 제공합니다. 이후 그들은 모두 패스에 동일한 영향을 것입니다 점도 변화가 작은 효과가 있어야 합니다.

기술은 흐름 유제로 충분히 균질 흐름 정권과 단상, 또는 다른 다중 위상을는 또는 거품 흐름을 분산 때 적용 됩니다.