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ヒドロキシルラジカル

ああ、1 つの水素原子と 1 つの酸素原子から成るの不対電子を分子。容易に反応するメタンと他の炭化水素雰囲気とすることができますでは対流圏酸素 2 NO の酸化機構に組み込まれているプロセスを開始この根本的な します。光分解における NO 2 原子 O とすぐにオゾンの対流圏の圧力を生成します。都市の環境でこのオゾンの主な原因です:

ああ + CH 3 CH 3 CH 3 CH 2 --->。 H 2 O

O 2 + チャンネル 3 CH 2 ---> CH 3 CH 2 O 2

なし + チャンネル 3 CH 2 O 2 ---> CH 3 CH 2 O + ない 2 hv---> なし + O

O 2 + O + M O 3---> M

ソース、ヒドロキシルラジカルの雰囲気の中で発生します主に 1) からの光分解過酸化水素、熱、2

(オゾンの光分解によって作成) 2) への攻撃、励起酸素ラジカルの水と光。

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Creator

  • rika.k
  • (Tokyo, Japan)

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